Chiller制冷技术为半导体行业提供解决方案

Chiller制冷技术为半导体行业提供解决方案

在薄膜沉积工艺中，Chiller系统的性能直接影响到薄膜质量和工艺稳定。随着半导体和显示面板行业的发展，对薄膜沉积工艺的温度控制要求越来越高。

一、Chiller系统选型要点

薄膜沉积工艺对温度控制有着较高的要求。在选型时，首先要准确计算工艺设备的散热负荷，考虑热负荷和动态负荷变化。

温控精度是选型的关键指标。建议选择采用PID控制算法的机型，能够实现温度调节。同时，要考虑系统的响应速度，确保能够快速响应工艺温度变化。

水质要求也是选型的考虑因素。薄膜沉积工艺通常要求使用超纯水作为制冷介质，因此需要选择能够满足高水质要求的Chiller系统。建议选择配备完善水处理系统的机型，包括去离子装置和微生物控制设备。

二、安装注意事项

Chiller系统应尽量靠近工艺设备，缩短管路长度，减少热损失。同时要预留足够的维护空间，确保日常维护和检修的便利性。

管路设计需要考虑热膨胀和振动隔离。建议采用不锈钢管路，减少腐蚀风险。在关键位置安装膨胀节和减震器，防止热应力和振动对系统的影响。

电气安装要符合相关规范，确保接地可靠。建议为Chiller系统配置配电柜，并安装过载保护和漏电保护装置。控制线路要采用隔离电缆，防止电磁干扰。

系统调试是安装的重要环节之一。首先要进行水系统冲洗，确保管路清洁。然后进行系统试运行，检查各部件运行状态，调整控制参数，确保系统达到设计要求。